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yxc1991

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻求助 已有2人参与

昨天使用Az5214E进行光刻
光刻显影之后，直线变成弯的了，应该是在显影的时候，光刻胶从基底上脱离了。想知道，导致这个问题的原因是什么？

当时的实验条件：
旋涂：4000rpm 1分钟
Bake：95C 95s
曝光：紫外功率忘了，15s
显影时间大概60s
Si片比较老了，而且不是那种自带SiO2的；其他试剂也是有点历史的。。。

光刻求助
Screen Shot 2017-04-27 at 5.40.33 PM.png
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1楼 2017-04-28 05:53:04
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dezhuli

金虫 (小有名气)

博士
衬底要做HMDS增加黏附性

发自小木虫Android客户端
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2楼2017-04-28 07:15:34
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
硅片如果是开包很久的，上面的水汽吸附就很多了。所以在使用前，用120°C以上的温度，烘一个小时，尽可能的去湿气以后再使用。
如果还是不行，那么就熏一层HMDS。这个可以问问研材微纳。
除了光刻胶以外，其它试剂只要妥善保存，即使放很久也能用，不用担心它们的影响。
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3楼2017-04-28 13:53:22
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biany_yg

铁虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

硅片重新清洗下，可能表面不干净，重复使用过
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4楼2017-07-26 10:32:35
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