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yxc1991

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻求助已有2人参与

昨天使用Az5214E进行光刻
光刻显影之后,直线变成弯的了,应该是在显影的时候,光刻胶从基底上脱离了。想知道,导致这个问题的原因是什么?

当时的实验条件:
旋涂:4000rpm 1分钟
Bake:95C 95s
曝光:紫外功率忘了,15s
显影时间大概60s
Si片比较老了,而且不是那种自带SiO2的;其他试剂也是有点历史的。。。

光刻求助
Screen Shot 2017-04-27 at 5.40.33 PM.png
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dezhuli

金虫 (小有名气)

博士


2楼2017-04-28 07:15:34
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
硅片如果是开包很久的,上面的水汽吸附就很多了。所以在使用前,用120°C以上的温度,烘一个小时,尽可能的去湿气以后再使用。
如果还是不行,那么就熏一层HMDS。这个可以问问研材微纳。
除了光刻胶以外,其它试剂只要妥善保存,即使放很久也能用,不用担心它们的影响。
3楼2017-04-28 13:53:22
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biany_yg

铁虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

硅片重新清洗下,可能表面不干净,重复使用过
4楼2017-07-26 10:32:35
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