| 查看: 2346 | 回复: 4 | |||
[求助]
SU-8光刻胶负胶 已有2人参与
|
|
SU-8光刻胶负胶，在曝光后，用溶剂可以洗掉么？或者曝光后的胶怎样去除呢？ 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
各位大神，目前国内有哪些比较好用的逆合成软件？
已经有8人回复
-
国社科系统bug了，是不是要放榜了？
已经有7人回复
-
申博发邮件
已经有7人回复
-
上海工程技术大学激光智能制造课题组｜2027级博士研究生招生公告
已经有8人回复
-
上海工程技术大学激光智能制造课题组招收博士研究生
已经有8人回复
-
27秋季材料博士申请求助
已经有4人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- ICP刻蚀光刻负胶SU-8
已经有5人回复
- 可以用负胶做掩模刻蚀氮化硅吗？
已经有7人回复
★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
a唐小川a(费姚永芬代发): 金币+3 2017-06-12 09:53:33
感谢参与，应助指数 +1
a唐小川a(费姚永芬代发): 金币+3 2017-06-12 09:53:33
|
本帖内容被屏蔽 |
2楼2017-04-16 08:55:21
3楼2017-04-16 11:45:22
4楼2017-04-17 10:53:04
kingkongking
版主 (知名作家)
酒逢知己千杯少
- 应助: 657 (博士)
- 贵宾: 0.366
- 金币: 13298.4
- 散金: 14198
- 红花: 65
- 沙发: 4
- 帖子: 8993
- 在线: 2335.5小时
- 虫号: 1198552
- 注册: 2011-02-01
- 性别: GG
- 专业: 火山学
- 管辖: 教师之家
5楼2017-04-18 03:18:01