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1327744130新虫 (初入文坛)
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vasp计算磁矩出错,结果是0.05,体系有一个悬挂键
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请教一个问题,我用vasp计算二氧化硅的模型,体系中含有一个悬挂键缺陷,当缺陷在硅和二氧化硅界面的时候,出来的磁矩是0.99,自旋电荷密度图也比较好,但是把缺陷挪到硅层的时候,出来的自旋电荷密度图比较分散,磁矩也很小,最高也就0.3. 谢谢!! L~(94~QNAQ2V2E3BN6LRL5E.jpg |
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新虫 (初入文坛)
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