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1327744130新虫 (初入文坛)
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vasp计算磁矩出错，结果是0.05，体系有一个悬挂键
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请教一个问题，我用vasp计算二氧化硅的模型，体系中含有一个悬挂键缺陷，当缺陷在硅和二氧化硅界面的时候，出来的磁矩是0.99，自旋电荷密度图也比较好，但是把缺陷挪到硅层的时候，出来的自旋电荷密度图比较分散，磁矩也很小，最高也就0.3. 谢谢！！  L~(94~QNAQ2V2E3BN6LRL5E.jpg |
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zhangfrank
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