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zhangletao1986

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】Si基底上的SiO2氧化层一般有多厚

RT。
一般在制备薄膜所用的抛光的Si 基底上SiO2有多厚?
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zhaodazhu

铜虫 (初入文坛)


wdwsnnu(金币+1,VIP+0):3x,谢谢讨论
我看到文献上又说,一般native oxide厚度为1~2nm,我自己没有检测过,不知道是否正确,我感觉20~50nm有点厚了吧,自然情况下,温度和氧气压力都不高,不应该这么厚吧。
4楼2008-12-28 13:44:12
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memser

双抛或者单抛硅片上的自然氧化层不超过50nm,我们通常用椭偏仪测得是20nm左右。

[ Last edited by memser on 2008-12-28 at 10:11 ]
2楼2008-12-27 20:48:47
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forrestye

铁虫 (初入文坛)

★ ★
zhangletao1986(金币+2,VIP+0):Thank you!
自然氧化层一般小于5nm,cross section HR-TEM表征的结果。
3楼2008-12-28 04:40:09
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gaolibo

金虫 (小有名气)


wdwsnnu(金币+1,VIP+0):3x,谢谢讨论
具体看放置的环境,和生产的厂家。一般而言,在1nm之内,三到五个原子层
5楼2008-12-28 17:07:46
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