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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » 【求助】Si基底上的SiO2氧化层一般有多厚
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zhangletao1986

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】Si基底上的SiO2氧化层一般有多厚

RT。
一般在制备薄膜所用的抛光的Si 基底上SiO2有多厚？
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1楼 2008-12-27 20:26:15
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memser

双抛或者单抛硅片上的自然氧化层不超过50nm，我们通常用椭偏仪测得是20nm左右。

[ Last edited by memser on 2008-12-28 at 10:11 ]
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2楼2008-12-27 20:48:47
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forrestye

铁虫 (初入文坛)
★ ★
zhangletao1986(金币+2,VIP+0):Thank you!
自然氧化层一般小于5nm，cross section HR-TEM表征的结果。
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3楼2008-12-28 04:40:09
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zhaodazhu

铜虫 (初入文坛)
★
wdwsnnu(金币+1,VIP+0):3x，谢谢讨论
我看到文献上又说，一般native oxide厚度为1～2nm，我自己没有检测过，不知道是否正确，我感觉20～50nm有点厚了吧，自然情况下，温度和氧气压力都不高，不应该这么厚吧。
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4楼2008-12-28 13:44:12
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gaolibo

金虫 (小有名气)
★
wdwsnnu(金币+1,VIP+0):3x，谢谢讨论
具体看放置的环境，和生产的厂家。一般而言，在1nm之内，三到五个原子层
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5楼2008-12-28 17:07:46
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