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vendor2014铜虫 (初入文坛)
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[交流]
磁性材料溅射无法成膜 已有3人参与
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朋友们好， 有没有人目前做磁性材料的磁控溅射的， 目前用永磁靶来溅射镍还有镍铁合金， 溅射镍的时候起辉亮度跟非磁性金属材料感觉没有什么不同。就是成膜慢， 但是溅镀镍铁的时候起辉的亮度明显较暗，溅射了1个小时左右，膜层几乎没有。 找过论坛里其他前辈的相关帖子， 说是铁的导磁率高，但如果换上更强的强磁铁的话，或者换上电磁靶， 溅射出来的镍还有铁原子会不会更容易受强磁力影响？反而削弱沉积时的动能呢？ 希望有做过磁性材料溅射的朋友交流下。 谢谢了。 |
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 薄膜制备与特性 |
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这一方面了解不多，但对于您说的磁性金属合金无法形成膜层问题，或许是因为非磁性金属材料溅射时，材料原子从靶材脱离，受电场的作用溅射出去，从而在目标区域成膜；而磁性材料，溅射时金属原子定向移动，形成磁场，导致其不按原定路径堆积，无法在目标区域成膜。解决方法：首先，确认磁性材料是否溅射出去，可通过长时间溅射前后靶材的重量差；其次，观察磁性材料到底溅射到哪里了，不在目标区域，或许由在磁场作用，它溅射到其他地方了。 不专业的回答，仅供您参考，希望对您有用！ |
vendor20142楼2017-03-19 10:48:42
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用永磁靶溅射铁靶材的效果不好，磁场弱，不容易无法溅射和起辉，磁控溅射的溅射动能是受磁场加速轰击靶材的气体原子给予的，如果磁场太小，平均自由程也会受到影响，溅射的过程就像哈气一样，无法顺利成膜。 发自小木虫Android客户端 |
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3楼2017-03-19 11:25:34
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