| 查看: 1369 | 回复: 6 | |||
[交流]
原子层沉积制备AZO的工艺调控 已有4人参与
|
|
最近在不同的衬底上用ALD生长AZO的薄膜，想试图通过调整ALD的工艺参数来提升AZO的导电性。 目前对与生长温度、衬底、源的选用、源的脉冲顺序以基脉冲循环比的研究都比较多。 诸位有对ALD脉冲时间对生长的影响比较了解吗？ 大家出来交流一下呀！  |
回复此楼» 猜你喜欢
博士去二本高校当辅导员，如何调整心态？
已经有8人回复
-
27细胞生物学申博
已经有5人回复
-
面上有专家说实验设备不是我们单位的
已经有5人回复
-
江苏省自然基金 什么时候出结果
已经有6人回复
-
广西大学-广州大学招聘博士后 欢迎广大优秀人才！！！
已经有11人回复
-
闲聊
已经有3人回复
-
如何查询2026年获批项目名称？
已经有3人回复
-
两块石头
已经有10人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8O.55.1.O.54,科目全,可伽急
已经有15人回复
-
面上没中，邀请各位路过的虫友分析一下分数
已经有13人回复
chengkeji
新虫 (知名作家)
- 应助: 1 (幼儿园)
- 金币: 1094.8
- 散金: 12195
- 红花: 5
- 帖子: 5412
- 在线: 369小时
- 虫号: 3751463
- 注册: 2015-03-16
- 性别: GG
- 专业: 物理电子学
2楼2017-03-31 10:15:29
3楼2017-12-27 22:13:56
4楼2017-12-29 16:14:17
5楼2018-05-11 15:02:04
6楼2019-05-08 09:58:32
7楼2019-05-08 09:59:12