| 查看: 1344 | 回复: 3 | |||
绿叶子1990铁虫 (初入文坛)
|
[求助]
光刻间去胶返工的清洗槽温度和时间? 已有2人参与
|
| 去年开始半导体工作,现在正在进行新项目,用到正胶,需要对光刻间的晶片进行去胶返工,现在用的去胶液的成分主要是NMP(N-甲基吡咯烷酮,70-80%),和1,2-丙二醇(20-30%)。我想问的是去胶液所用温度和时间大致是多少啊?因为我从来没做过,没有经验。所以想请教有经验的人来指点迷津。谢谢啦! |
» 猜你喜欢
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
北方工业大学储能技术-02电化学储能与氢能方向招收2026级二次调剂学生
已经有0人回复
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有67人回复
求助WO3.cif文件 对应PDF卡片 43-1035,单斜晶系 , P21/n 。
已经有2人回复
稀土发光分析|核壳结构|寿命拟合
已经有14人回复
稀土发光分析|核壳结构|寿命拟合
已经有13人回复
稀土发光分析|核壳结构|寿命拟合
已经有6人回复
稀土发光分析|核壳结构|寿命拟合
已经有0人回复
稀土发光分析|核壳结构|寿命拟合
已经有0人回复
26 届青岛大学纺织化学与染整工程硕士(液体纳米分散染料方向)求申博建议
已经有3人回复
26 届青岛大学纺织化学与染整工程(液体纳米分散染料)求浙理工纺织 / 材料博导名额
已经有1人回复
★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
绿叶子1990: 金币+3, ★有帮助 2017-02-17 09:35:14
感谢参与,应助指数 +1
绿叶子1990: 金币+3, ★有帮助 2017-02-17 09:35:14
|
本帖内容被屏蔽 |
2楼2017-02-07 15:15:49
绿叶子1990
铁虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 26.5
- 帖子: 4
- 在线: 3.2小时
- 虫号: 3411584
- 注册: 2014-09-12
- 性别: MM
- 专业: 应用高分子化学与物理
3楼2017-02-17 09:38:55
4楼2017-04-08 19:24:37













回复此楼
50