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hljiang

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 【请教】关于质谱的问题

我们用于CO催化氧化的质谱,最近发现出问题了

开机后压力能够下去,大概到10-7,这个应该是一个正常范围的值

但是在反应开始前,我需要通He/Ar赶走空气,在赶的时候用MS监测杂质气体的含量,以前杂质气体,如O2,N2,H2O,CO2等很快就能到10-11以内,但是最近不知道什么原因,通入He/Ar之后那些杂质气体到10-10左右后就基本很难动了,不再往下,而且还有很多杂峰,都不知道对应啥的,基线也基本在1×10-12左右(也就是说1×10-12以下的都是杂峰了)。

这样我的MS就不能用来监测我的CO催化氧化反应了,晕死,也不知道原因出在哪里,请问有没有类似经历的朋友,给帮个忙,多谢了!
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岂能尽如人意,但求无愧吾心
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cicily201

木虫 (小有名气)

我们一般烘烤是指  质谱面板上那个 “baking”按钮 打开那个扭烘烤 这个烘烤时间最少要8个小时 可以看看说明书上烘烤那一部分
11楼2008-12-16 16:41:46
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haxia

木虫 (著名写手)

扣了背景吗?
你用什么检测方法?
3楼2008-12-13 16:54:56
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hljiang

铁杆木虫 (著名写手)

引用回帖:
Originally posted by haxia at 2008-12-13 16:54:
扣了背景吗?
你用什么检测方法?

什么意思?
我是在检测反应物之前的操作,通He气排空反应管内的空气,结果发现CO2和水峰,还有H2的峰一直都很高。

不过现在似乎好一点了,但是还是有点偏高。
岂能尽如人意,但求无愧吾心
4楼2008-12-13 20:55:12
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haxia

木虫 (著名写手)


nxl5096224(金币+1,VIP+0):^_^
这本身是质谱的背景峰,真空虽然到了10-6Pa, 但是还是有气体,另外水的背景峰很高,很难抽掉的。
5楼2008-12-14 13:04:44
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