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三氯化铁溶液刻蚀硅基板上的铜层后，铜种子层下面的二氧化硅不见了，这是怎么回事呢？ 已有1人参与
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实验前 如图1，蓝色的是二氧化硅膜，紫红色的是二氧化硅膜上的铜种子层，二氧化硅不跟三氯化铁反应 三氯化铁溶液刻蚀之后 如图2 原来的的二氧化硅膜还在，但是铜被刻蚀掉之后，二氧化硅膜也不见了，白色的就是裸硅片，甚是奇怪，有哪位大神遇到类似的情况，求助啊  1.jpg  2.jpg |
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