7楼: Originally posted by hainanshifan at 2016-12-16 00:49:40
我想是不是因为镀Al过程中温度使光刻胶变性，所以导致去不掉了，，
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10楼: Originally posted by exciting73 at 2016-12-16 13:00:27
镀膜厚度是多少？镀膜时温度会升高到多少？一般光刻胶图案做成倒梯形就会容易剥离，推荐lift-off工艺用负胶比如NR9-3000PY或ma-N 1420等，具体要根据镀膜厚度及分辨率决定。我一会站内发信息给你。
AR系列的是正胶 ...

12楼: Originally posted by hainanshifan at 2016-12-16 13:19:02
对的，AR是正胶，掩膜的圆形是明场，所以曝光后圆电极的地方光刻胶显影掉了，胶厚大概几百纳米，然后镀的膜，镀膜温度应该三四百度差不多，Al膜有接近1um，丙酮里面大概泡了20分钟吧。
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12楼: Originally posted by hainanshifan at 2016-12-16 13:19:02
对的，AR是正胶，掩膜的圆形是明场，所以曝光后圆电极的地方光刻胶显影掉了，胶厚大概几百纳米，然后镀的膜，镀膜温度应该三四百度差不多，Al膜有接近1um，丙酮里面大概泡了20分钟吧。
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14楼: Originally posted by 简语micky at 2016-12-16 16:38:28
楼主做的这个退火前后的电流能差多少，在一个量级吗？

15楼: Originally posted by 大河之上 at 2016-12-16 18:24:21
这个在集成电路工业里是最基本的，几十年的成熟工艺了，为啥还要研究

16楼: Originally posted by exciting73 at 2016-12-16 21:17:23
如果镀膜时温度那么高，胶估计变性了。正胶耐受不了那么高的温度。需要用耐高温的lift-off负胶。可站内联系。...

17楼: Originally posted by hainanshifan at 2016-12-16 22:23:46
电流差多少是什么意思？不退火的话测出来不是线性的IV，，，
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