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SWD125

新虫 (初入文坛)

[求助] Cr做掩膜,koh刻蚀硅片,求助做过的各位 已有1人参与

用Cr做掩蔽层,氢氧化钾加异丙醇刻蚀硅片(刻蚀200um),溅射镀的铬,在水浴80℃下,刻蚀一个小时铬,铬就碎了,铬破碎是什么原因?(我镀铬的时候,没有清洗,买回来直接就溅射镀膜机镀铬了)
还有,我想用koh溶液在硅片上刻蚀1cm x 1cm面积的窗口,深度达到200μm,硅片晶向<100>,理论上可能行吗?
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dezhuli

金虫 (小有名气)

博士


2楼2016-12-14 15:49:25
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kangye_1989

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
建议要洗一下,镀出来的膜最好退火处理一下比较好
3楼2016-12-14 17:03:03
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perry_ping

新虫 (著名写手)


4楼2016-12-16 08:23:00
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997855935

新虫 (初入文坛)

楼主请问你镀铬的工艺参数怎么确定的?以及铬破碎的问题如何解决的?
5楼2019-03-14 21:20:20
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