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蒲公英hehe

铜虫 (初入文坛)


[求助] 金刚石种子 已有1人参与

用微波等离子气相沉积制备金刚石薄膜的时候,硅片基体上的薄膜总是不均匀或者没有,是因为金刚石种子不均匀或者没有,还是别的因素?

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蒲公英hehe

铜虫 (初入文坛)


种金刚石种子方法:首先是清洗硅片基体,硅片丙酮超声3min,酒精超声3min,水超声3min,然后是在金刚石种子溶液中超声30min,之后再在水中超声3min,有时同时做两个样品,一个可以长出来,一个就什么都没有,设备在长碳化硅薄膜时可以长出来,检查甲烷气体没有问题,尝试好多次了,只是偶尔能做出来一个,而且只是最近出的问题,快崩溃了
5楼2016-12-16 15:06:52
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Q89285139

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
你是用硅片做基体的,可能的问题硅片表面没处理好。也有可能是温度没控制好。或是生长方面的问题。
你说的太笼统了,不太好具体判断。
另外你也可以试下用MPCVD的单晶金刚石做种子或是用HPHT的单晶金刚石做种子试下薄膜的效果。
2楼2016-12-10 09:03:05
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ljl520

木虫 (正式写手)

鸡腿儿

低调做人,低调做事,做对的事儿
3楼2016-12-12 20:49:47
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ljl520

木虫 (正式写手)

鸡腿儿

1. 设备,等离子体是否均匀:2. 基片预处理是否一致。多半是1的问题

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低调做人,低调做事,做对的事儿
4楼2016-12-12 20:51:06
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