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junglegirl

铁杆木虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射镀钴锆薄膜

用磁控溅射中直流溅射这两个金属靶(靶材都是单质靶),使两靶共溅射.硅片为衬底.为什么测试xrd没有想要的峰?

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[ Last edited by qfw_68 on 2016-12-8 at 13:35 ]
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junglegirl

铁杆木虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by qfw_68 at 2017-01-04 09:07:24
可能是这几个原因:1)金属钴有磁性,但未使用强磁磁控靶,导致膜中钴含量太低;2)退火温度不够,导致未形成合金相;3)结晶度不够,无衍射峰;4)膜太薄,峰太弱。

你好,你也做过钴镐的磁性薄膜么?

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7楼2017-01-05 09:06:50
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junglegirl

铁杆木虫 (小有名气)

没有钴锆的合金相,也经过退火处理了

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2楼2016-12-07 20:16:00
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3楼2016-12-07 20:41:36
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蚊子咬了猪猪

铜虫 (小有名气)

两个可能原因,1.没有结晶或者结晶度不好。2.单晶硅的峰太强,讲样品的峰完全掩盖

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4楼2016-12-19 23:51:26
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