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junglegirl

铁杆木虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射镀钴锆薄膜

用磁控溅射中直流溅射这两个金属靶(靶材都是单质靶),使两靶共溅射.硅片为衬底.为什么测试xrd没有想要的峰?

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[ Last edited by qfw_68 on 2016-12-8 at 13:35 ]
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junglegirl

铁杆木虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 蚊子咬了猪猪 at 2016-12-19 23:51:26
两个可能原因,1.没有结晶或者结晶度不好。2.单晶硅的峰太强,讲样品的峰完全掩盖

我在测xrd完全避开了单晶硅的最强峰,但出来的相也不是自己想要的,在好好做做吧!谢谢你

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5楼2017-01-04 08:49:50
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junglegirl

铁杆木虫 (小有名气)

没有钴锆的合金相,也经过退火处理了

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2楼2016-12-07 20:16:00
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3楼2016-12-07 20:41:36
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蚊子咬了猪猪

铜虫 (小有名气)

两个可能原因,1.没有结晶或者结晶度不好。2.单晶硅的峰太强,讲样品的峰完全掩盖

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4楼2016-12-19 23:51:26
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