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二氧化硅做模板，咋用氢氟酸洗点？浓度与温度与时间要求，求各位指导/
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(1) 用TEOS水解成二氧化硅包裹在纳米硅上，水解条件在什么溶液条件下，什么温度，需要调节PH? (2) 在Si@SiO2上再包裹碳源，比如葡萄糖，该在啥条件？ (3)对于模板SiO2用氢氟酸洗掉，用多少浓度？温度条件？静置还是搅拌条件？ 实验中一直没有做出壳层结构，我是用10%，20%，40%三种浓度静置洗，发现没有壳层结构！ 求大神各位师兄师姐指导！！小弟在此感激不尽！！ |
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2楼2016-11-22 23:06:50
3楼2016-11-23 12:53:05
zhouzhifu
木虫 (小有名气)
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4楼2017-11-08 15:52:23