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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 介孔材料 » 二氧化硅做模板，咋用氢氟酸洗点？浓度与温度与时间要求，求各位指导/
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阳仔1314520

新虫 (初入文坛)

[求助] 二氧化硅做模板，咋用氢氟酸洗点？浓度与温度与时间要求，求各位指导/

(1) 用TEOS水解成二氧化硅包裹在纳米硅上，水解条件在什么溶液条件下，什么温度，需要调节PH?
         (2) 在Si@SiO2上再包裹碳源，比如葡萄糖，该在啥条件？
         (3)对于模板SiO2用氢氟酸洗掉，用多少浓度？温度条件？静置还是搅拌条件？
         实验中一直没有做出壳层结构，我是用10%，20%，40%三种浓度静置洗，发现没有壳层结构！
         求大神各位师兄师姐指导！！小弟在此感激不尽！！
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1楼 2016-11-22 22:07:01
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dahai198

禁虫 (初入文坛)
本帖内容被屏蔽
2楼2016-11-22 23:06:50
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阳仔1314520

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by dahai198 at 2016-11-22 23:06:50
先要做出核壳结构吧。TEOS水解制备SiO2包覆有很多相关文献，在醇水溶液中加氨水，看文献摸索摸索。

是的文献很多，但是感觉最后做不出来，TEOS水解需要加热？溶液PH有要求吗？
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3楼2016-11-23 12:53:05
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zhouzhifu

木虫 (小有名气)
楼主，可否交流一下。2516985745
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勤能补拙......
4楼2017-11-08 15:52:23
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