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二氧化硅做模板,咋用氢氟酸洗点?浓度与温度与时间要求,求各位指导/
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(1) 用TEOS水解成二氧化硅包裹在纳米硅上,水解条件在什么溶液条件下,什么温度,需要调节PH? (2) 在Si@SiO2上再包裹碳源,比如葡萄糖,该在啥条件? (3)对于模板SiO2用氢氟酸洗掉,用多少浓度?温度条件?静置还是搅拌条件? 实验中一直没有做出壳层结构,我是用10%,20%,40%三种浓度静置洗,发现没有壳层结构! 求大神各位师兄师姐指导!!小弟在此感激不尽!! |
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2楼2016-11-22 23:06:50
3楼2016-11-23 12:53:05
zhouzhifu
木虫 (小有名气)
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