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MOCVD法制备氧化铝薄膜
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| 利用Al2O3作为阻变层，制备MIM结构忆阻器，试验中需要了解阻变特性，故来此求教，除了厚度、表面形貌及粗糙度、晶体中元素成分及比例、透射谱，还有没有其他实验需要去完善。 |
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