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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 在矩形片上甩光刻胶不均匀
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青春沦落在

新虫 (初入文坛)

[交流] 在矩形片上甩光刻胶不均匀 已有5人参与

我在矩形片上甩光刻胶，厚度不均匀。光刻胶是s1818，矩形片上是3um的的微坑阵列。哪位大神能有方法在矩形上甩匀

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1楼 2016-11-14 09:43:42
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地咕噜球

木虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
6楼: Originally posted by 偶然556 at 2017-02-17 21:39:05
您好，我现在也是用的矩形基片，您说的喷涂方法具体是怎么操作呢，我的胶是SU-82075，黏度比较大...

用离心机甩就可以啊
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7楼2017-04-08 19:30:26
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
矩形，我们都用喷胶来解决均匀性的问题。
你可以看看苏州美图半导体
对于3um的微坑阵列，需要的光刻胶厚度也是3um，对于喷胶来说也有一些难度，但是可以做。
赞一下(3人) 回复此楼
2楼2016-11-14 15:55:36
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青春沦落在

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2016-11-14 15:55:36
矩形，我们都用喷胶来解决均匀性的问题。
你可以看看苏州美图半导体
对于3um的微坑阵列，需要的光刻胶厚度也是3um，对于喷胶来说也有一些难度，但是可以做。

好的，我看看你说的那个

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3楼2016-11-14 17:02:29
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exciting73

金虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
矩形基片甩胶时边胶会很厚，均匀度很差。用喷涂、辊涂、刮涂等方法好些。
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4楼2016-11-17 14:47:02
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