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奇怪的残留现象，求大神指点迷津
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我最近在测的一个化合物灵敏度很好，LC-MS测定，20ng/ml的浓度，峰面积达10的五次方。经常被残留问题所困扰。上一次进空白溶剂，能检测到目标化合物的峰，峰强最高都达到10的四次方了。排除了柱子、流动相、针座、六通阀的问题，反复进空白溶剂仍有残留峰出现，昨天第一针空白刚出了残留峰我就把柱子取下来，直接进质谱，第二针又接上柱子正常进样空白，这一针出峰比较奇怪，出了几个小峰，第三针空白残留突然就没了，后来接着进了几针空白都没有残留了。然后就进了一系列样品，在这中间也不定时的进空白观察有无残留，昨天进完样品后连着进了两针空白，也都没有残留，然后冲柱子。今天的第一针空白，就又出现残留了，连续进了好几针空白残留也一直存在，求大神指点迷津，我已经迷惑了 发自小木虫Android客户端 |
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我就怀疑是柱子前面某个地方污染了，排除针座、六通阀，那就是定量环？另外我比较疑惑的是，我前一天走了样品之后，连着进了两针空白，都没有残留，第二天的第一针空白就有残留了，而且峰强发达了10的四次方，第二针降到几千，然后就维持在这个水平了～请问你知道这是怎么回事吗 发自小木虫Android客户端 |
9楼2016-11-07 17:02:45
xiaofei_lu
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3楼2016-11-05 00:44:12
jameking
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丹之布丁4楼2016-11-05 02:44:39