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强哥哥哥新虫 (著名写手)
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光刻显影不干净什么原因？已有4人参与
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用的是AZ-5214E反转光刻胶，但是在显影的时候有胶残余，甚至一直在显影夜液中放两个小时，最后还是不干净。在PZT,PIMNT单晶上面甩的胶，表面不是很平整。改怎么改进实验？ @yswyx 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼
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是不是粘度太大了所以才甩不全，你涂的胶有多厚，显影不干净跟预烘温度和曝光量有很大关系的，可以考虑降低预烘温度，增加曝光量，慢慢调会找到合适工艺的，之前我也在不平的基体上做过实验，后来就找到合适的工艺了 发自小木虫Android客户端 |
18楼2016-10-31 11:04:44