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化君木虫 (正式写手)
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[求助]
湿法刻蚀单晶硅
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两步法湿法刻蚀单晶硅过程中，硝酸银加入10%HF中意外出现白色混浊，絮状沉淀是什么原因，求万能的虫友们解惑。 具体的：昨天实验正常，无此意外现象。 为图方便，今天小弟将实验室的40%HF稀释为10%，放入农夫山泉矿泉水瓶里（事先已用去离子水刷洗数遍），然后配置镀银液时就出现了白色混浊，再用实验室原40%的HF，结果有少许混浊。不知道是瓶子没洗干净有氯离子什么的，还是其他原因。 很郁闷，请虫友们发表一下高见 发自小木虫Android客户端 |
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