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化君

木虫 (正式写手)

[求助] 湿法刻蚀单晶硅

两步法湿法刻蚀单晶硅过程中,硝酸银加入10%HF中意外出现白色混浊,絮状沉淀是什么原因,求万能的虫友们解惑。
具体的:昨天实验正常,无此意外现象。
为图方便,今天小弟将实验室的40%HF稀释为10%,放入农夫山泉矿泉水瓶里(事先已用去离子水刷洗数遍),然后配置镀银液时就出现了白色混浊,再用实验室原40%的HF,结果有少许混浊。不知道是瓶子没洗干净有氯离子什么的,还是其他原因。 很郁闷,请虫友们发表一下高见

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