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lcqsc

铁虫 (小有名气)

[交流] 关于石墨烯狄拉克点问题

完美的单层石墨烯的狄拉克点电压(Vdirac)应该=0,即电子和空穴浓度相等,在Vg=0V时候的态密度等于0
但是实际上收到impurites、 defect 、disorder等的影响,石墨烯通常是p-doping。
所以我们扫描背栅(以SiO2为例子)时候,通常狄拉克点电压>0V   比如10V、30V甚至还有一些在70--80V(说明,石墨烯被重度p型掺杂了)

问题来了
-----------------
    有时候我们扫描到100度伏,还是没有找到石墨烯的狄拉克点

但是,我们再制备一个顶栅(以30nmHfO2为例),通常扫描顶栅,发现可能顶栅电压还没到10V就找到石墨烯的狄拉克点了

这是为什么呢?

即使背栅能找到狄拉克点,其背栅和顶栅的狄拉克点电压也不一样,通常是顶栅比背栅小很多。可以看到,石墨烯对顶栅的敏感性比背栅敏感很多

这是为什么呢??两个狄拉克点还不一样

欢迎大家来发言,交流

关于石墨烯狄拉克点问题
360截图20160929221606170.jpg

[ Last edited by lcqsc on 2016-10-9 at 21:18 ]
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6楼2016-09-30 08:15:31
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juvenok

至尊木虫 (职业作家)

欲之上而得之中


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
如果你的顶栅是悬空的话,我怀疑是背栅高压耦合到了上面,从而增大了有效的栅极充电。
可以参考这篇comment:
Fuhrer, Michael S., and James Hone. "Measurement of mobility in dual-gated MoS2 transistors." Nature nanotechnology 8.3 (2013): 146-147.

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singleboys~singleboys~~singlealltheway~~~
4楼2016-09-29 23:41:00
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lcqsc

铁虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by juvenok at 2016-09-29 23:41:00
如果你的顶栅是悬空的话,我怀疑是背栅高压耦合到了上面,从而增大了有效的栅极充电。
可以参考这篇comment:
Fuhrer, Michael S., and James Hone. "Measurement of mobility in dual-gated MoS2 transistor ...

谢谢
8楼2016-09-30 10:58:07
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zxjwc004

木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
送红花一朵
楼主找到原因了吗?能不能讨论一下
9楼2019-09-03 10:40:03
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