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思密达佳

新虫 (初入文坛)
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求介孔二氧化硅大神帮忙
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我想问问大神们，在介孔二氧化硅制备中为什么即使用回流的方法去除模板，样品也要干燥后才能回流，干燥后不是样品颗粒都会聚在一块么？分散性就不太好，容易团聚么？
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1楼 2016-08-21 16:59:33
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邻家小破孩

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为什么回流   直接烧掉不好吗

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7楼2016-08-21 17:12:42
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思密达佳

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
7楼: Originally posted by 邻家小破孩 at 2016-08-21 17:12:42
为什么回流   直接烧掉不好吗

用马弗炉烧，样品肯定要干的，但用马弗炉烧，样品表面的羟基就会少，影响表面修饰，为什么要干燥呢？
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8楼2016-08-21 17:35:52
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邻家小破孩

木虫 (小有名气)
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8楼: Originally posted by 思密达佳 at 2016-08-21 17:35:52
用马弗炉烧，样品肯定要干的，但用马弗炉烧，样品表面的羟基就会少，影响表面修饰，为什么要干燥呢？...

那你用回流的方法如果不干燥，不仅用的溶剂量大并且也不能完全去除模板剂，后面改性出来肯定不好解释，干燥的话还不如烧掉

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9楼2016-08-21 20:14:20
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qhn0725

金虫 (小有名气)
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8楼: Originally posted by 思密达佳 at 2016-08-21 17:35:52
用马弗炉烧，样品肯定要干的，但用马弗炉烧，样品表面的羟基就会少，影响表面修饰，为什么要干燥呢？...

马弗炉烧过以后模板去除的比较干净，后修饰以前可以再做一下活化，提高硅羟基的量。
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10楼2016-08-25 20:29:08
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匿名

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11楼2019-08-03 16:32:27
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匿名

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12楼2020-07-09 14:58:32
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05071207012楼
2016-08-21 16:59   回复  
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sunzzlj3楼
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blxmc20124楼
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追日5楼
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zxl小朱6楼
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