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思密达佳
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我想问问大神们,在介孔二氧化硅制备中为什么即使用回流的方法去除模板,样品也要干燥后才能回流,干燥后不是样品颗粒都会聚在一块么?分散性就不太好,容易团聚么?
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1楼
2016-08-21 16:59:33
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思密达佳
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7楼
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Originally posted by
邻家小破孩
at 2016-08-21 17:12:42
为什么回流 直接烧掉不好吗
用马弗炉烧,样品肯定要干的,但用马弗炉烧,样品表面的羟基就会少,影响表面修饰,为什么要干燥呢?
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8楼
2016-08-21 17:35:52
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邻家小破孩
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为什么回流 直接烧掉不好吗
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2016-08-21 17:12:42
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8楼
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思密达佳
at 2016-08-21 17:35:52
用马弗炉烧,样品肯定要干的,但用马弗炉烧,样品表面的羟基就会少,影响表面修饰,为什么要干燥呢?
...
那你用回流的方法如果不干燥,不仅用的溶剂量大并且也不能完全去除模板剂,后面改性出来肯定不好解释,干燥的话还不如烧掉
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9楼
2016-08-21 20:14:20
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qhn0725
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:
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思密达佳
at 2016-08-21 17:35:52
用马弗炉烧,样品肯定要干的,但用马弗炉烧,样品表面的羟基就会少,影响表面修饰,为什么要干燥呢?
...
马弗炉烧过以后模板去除的比较干净,后修饰以前可以再做一下活化,提高硅羟基的量。
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10楼
2016-08-25 20:29:08
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5楼
2016-08-21 16:59
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zxl小朱
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sunzzlj
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blxmc2012
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0507120701
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2016-08-21 16:59
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