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谁能帮我分析一下这两个XRD图谱?
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大家好,我是第一次做XRD图谱,以前不是本专业,所以有点迷惑,我做的是钛材表面生物活性涂层表征,我的问题是: 1、测试时,能直接测,还是需要用薄膜法?老师说直接测试会把我需要测的涂层峰值掩盖。 2、下面连个图,分别是用直接测试和薄膜法测试的TA2型纯钛,未处理的。,哪位大侠能帮我分析一下这两个图谱,用不同方法差别怎么会这么大?谁能分析一下各峰值物相? 先谢谢大家啦!! |
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laimin15(金币+3,VIP+0):谢谢你的指点
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做薄膜样品需要掠入射,就是小角度衍射,最好用小角附件,不过没有也没关系,反正我们自己做的东西都是用一般的XRD直接打(到底什么是薄膜附件我也没见过,只是听X光的老师说过 )。。你说的“薄膜法”应该是指小角度。小角度掠射的时候X光穿透深度小,这样结果受基体影响比较小。直接测打出来的峰基本都是基体的。 还有就是薄膜最好能厚一点,反正是测结构嘛,实际应用的时候再把厚度降下来。。最好找一本讲材料测试方法的书,一般都会提到怎么做薄膜衍射。 也可以看看《薄膜结构X射线表征》(麦振洪 等, 科学出版社 2007 ) |
8楼2008-11-19 17:12:54












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