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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 射频磁控溅射没有膜层沉积
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WeightLoser

新虫 (初入文坛)

[求助] 射频磁控溅射没有膜层沉积 已有1人参与

一直用射频磁控溅射做膜，今天换了金属靶后，起辉都是正常的，可是衬底上却没有膜层的沉积。之前做金属非金属都很正常的。不知道各位虫友有没有遇到类似的问题的。感谢大家赐教。

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1楼 2016-08-13 23:17:47
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hyha

新虫 (正式写手)
引用回帖:
6楼: Originally posted by wbcui at 2016-08-14 14:20:35
这么多准研1的都来逛小木虫啊
准研1就这么努力！...

笨鸟先飞，

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7楼2016-08-14 14:22:46
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hyha

新虫 (正式写手)
准研一，老师给推荐和他专业相关的书是薄膜材料与薄膜技术。关于这个方向，楼主有没有什么要说的。

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2楼2016-08-14 08:26:10
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Gavin6152

金虫 (小有名气)
改变气压和增加功率试下呢，或者镀层颜色和衬底颜色相近，我以前镀过一次，肉眼看不出来镀上膜了，xrd测试却有

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3楼2016-08-14 09:06:42
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qinlilu_276

新虫 (小有名气)
楼主有做过检测吗？是在什么基体上镀的膜？正常情况纯金属膜用射频溅射应该是没有问题的

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4楼2016-08-14 09:54:06
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