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WeightLoser

新虫 (初入文坛)

[求助] 射频磁控溅射没有膜层沉积 已有1人参与

一直用射频磁控溅射做膜,今天换了金属靶后,起辉都是正常的,可是衬底上却没有膜层的沉积。之前做金属非金属都很正常的。不知道各位虫友有没有遇到类似的问题的。感谢大家赐教。

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北京众诚新材

捐助贵宾 (初入文坛)


引用回帖:
2楼: Originally posted by hyha at 2016-08-14 08:26:10
准研一,老师给推荐和他专业相关的书是薄膜材料与薄膜技术。关于这个方向,楼主有没有什么要说的。

你好,我是做靶材,有需要随时联系,谢谢!

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16楼2016-11-29 11:09:31
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hyha

新虫 (正式写手)

准研一,老师给推荐和他专业相关的书是薄膜材料与薄膜技术。关于这个方向,楼主有没有什么要说的。

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2楼2016-08-14 08:26:10
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Gavin6152

金虫 (小有名气)

改变气压和增加功率试下呢,或者镀层颜色和衬底颜色相近,我以前镀过一次,肉眼看不出来镀上膜了,xrd测试却有

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3楼2016-08-14 09:06:42
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qinlilu_276

新虫 (小有名气)

楼主有做过检测吗?是在什么基体上镀的膜?正常情况纯金属膜用射频溅射应该是没有问题的

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4楼2016-08-14 09:54:06
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