| 查看: 811 | 回复: 2 | ||
[求助]
用HBr气体刻蚀Si波导，用ZEP520A做掩膜。刻蚀完有残留物
|
|
尊敬的各位老师、同行你们好！ 如题所述，我们在用ZEP520A电子胶做掩膜用ICP（HBr气体）刻蚀SOI片时，出现了一些不明物，附着在Si的侧壁上。无论采用超声还是浓硫酸+双氧水的方式都去不掉，看电镜发现是一层较亮的物质，说明导电性较好，不知诸位有啥好的意见或者建议吗？ 上传的图片是刚刻蚀完还没去胶的SEM，去胶的没来得及拍，Si侧壁的东西在去胶前后都是存在的。  29221F41475F1947106E90A453201183.jpg |
回复此楼» 猜你喜欢
非晶合金
已经有2人回复
-
院士团队-每届学生都优秀-高自由度-团队氛围好
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有166人回复
-
求调剂
已经有3人回复
-
化工学院（学院正式调剂群+联系方式）
已经有0人回复
-
化工学院（学院官方群）-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟高效
已经有0人回复
-
黑龙江大学分析化学招调剂
已经有0人回复
-
武汉高校国家级人才团队招收材料，化学，纺织等专业硕士调剂生
已经有26人回复
-
纺大化工学院（官方群）-院士团队招生-学生自由度高发展好-培养模式成熟
已经有0人回复
-
温州大学化材学院王娟课题组招生
已经有5人回复
-
学院官方群-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟已有10余名学生赴985海外深造
已经有0人回复
2楼2016-08-04 15:12:08
3楼2017-04-11 16:13:59
