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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 如何避免射频磁控溅射靶边缘位置的溅射
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hihxl1

木虫 (正式写手)

[求助] 如何避免射频磁控溅射靶边缘位置的溅射 已有1人参与

如题，采用射频磁控溅射的时候，如何控制保护罩与靶的距离，才能避免压靶的不锈钢环不发生起辉溅射。
目前靶头的状态是：不锈钢环压住靶材，不锈钢环距离保护罩的距离为3mm，而保护罩距离靶材的垂直距离约为8mm。是否能够通过进一步降低不锈钢环与保护罩的距离来避免或者减少不锈钢的溅射呢？
另外，保护罩与金属环距离太近的话经常灭弧，提高通气量可否解决，可解决的原因是什么？
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新年里我要好好努力！创造新的辉煌！
1楼 2016-07-27 14:19:16
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Friend007

银虫 (知名作家)
一般保护罩和靶材的距离不要超过5mm

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2楼2016-07-27 18:33:34
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Friend007

银虫 (知名作家)
另 可适当增加靶材压环和保护罩的开孔直径 尽可能离溅射区域远一些 。

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3楼2016-07-27 18:40:51
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su736808421

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
最好的办法是缩短到暗区，大概是5mm左右，自己按照设备实际情况调试一个最合理的距离
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4楼2016-07-28 14:54:59
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