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光刻曝光过程中，曝光时间长短对结果有什么影响 已有1人参与
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| 在光刻过程中，曝光时间过长和曝光时间过短，对曝光的结果有何影响。曝光完毕，显影过净是什么意思？这些参数应该如何获取 |
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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敲字太累。我们最近会出一些简单的资料，介绍一下原理性问题。你可以发个联系方式给我，等资料做好了，我先通知你。 你也可以发邮件给tech@rdmicro.com，然后把具体遇到的问题写进去，像这样开放性的问题，很难用短篇幅来解答，而且最好是进行系统性学习。 先简单和你说一下，曝光过长的后果由很多：比如光刻胶轮廓变差，气泡，无法显影，光刻胶改性等等。过短，无法曝透光刻胶，显影显不出，或者显影不干净，负胶的话，图形不完整，轮廓差等等。过显，指的是显影超出标准时间，一般表现是轮廓变差，掉胶，厚度变薄等等。 |
2楼2016-07-22 12:26:13