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chanown

木虫 (著名写手)

[交流] 镀膜一致性控制 已有4人参与

目前采用磁控溅射,热蒸发等方法在10*10mm和6*6mm 玻璃基板上镀金膜,膜厚2nm,可能因为太薄了,镀膜时间也短,一版10-30片玻璃基板,片与片之间镀膜出来从肉眼看就有明显色差,吸收光谱测试最大与最小之间有时相差30%,强度也相差很多,片与片之间相差想控制在5%以内,请问有什么好的解决办法吗? 谢谢!
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蛋蛋wxy

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
你好,请问你溅射镀金的起辉压力、镀膜压力和温度分别是多少啊
8楼2017-04-22 13:07:10
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wangyong832

银虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
这个很正常的;看你磁控溅射靶的尺寸 以及你腔体的结构,你需要找到一个比较均匀的沉积区域,然后将衬底放在这个区域。
2楼2016-06-22 11:55:40
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chanown

木虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wangyong832 at 2016-06-22 11:55:40
这个很正常的;看你磁控溅射靶的尺寸 以及你腔体的结构,你需要找到一个比较均匀的沉积区域,然后将衬底放在这个区域。

这样每批次样品就少很多了
3楼2016-06-22 12:00:13
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wangyong832

银虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by chanown at 2016-06-22 12:00:13
这样每批次样品就少很多了...

靶  和 衬底 间距,  衬底旋转,  靶上那个罩子和靶的距离    这3个条件优化能增加均匀区域的面积。因为你长 Au薄膜, 生长速度应该很慢,所以沉积累速度问题不是很大。

如果还不能满足,那就换磁极  腔体什么的了。
4楼2016-06-22 23:32:39
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