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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 镀膜一致性控制
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chanown

木虫 (著名写手)

[交流] 镀膜一致性控制 已有4人参与

目前采用磁控溅射，热蒸发等方法在10*10mm和6*6mm 玻璃基板上镀金膜，膜厚2nm，可能因为太薄了，镀膜时间也短，一版10-30片玻璃基板，片与片之间镀膜出来从肉眼看就有明显色差，吸收光谱测试最大与最小之间有时相差30%,强度也相差很多，片与片之间相差想控制在5%以内，请问有什么好的解决办法吗？ 谢谢!
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薄膜材料和器件制备

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1楼 2016-06-21 10:54:03
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wangyong832

银虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
这个很正常的；看你磁控溅射靶的尺寸 以及你腔体的结构，你需要找到一个比较均匀的沉积区域，然后将衬底放在这个区域。
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2楼2016-06-22 11:55:40
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chanown

木虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wangyong832 at 2016-06-22 11:55:40
这个很正常的；看你磁控溅射靶的尺寸 以及你腔体的结构，你需要找到一个比较均匀的沉积区域，然后将衬底放在这个区域。

这样每批次样品就少很多了
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3楼2016-06-22 12:00:13
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wangyong832

银虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by chanown at 2016-06-22 12:00:13
这样每批次样品就少很多了...

靶  和 衬底 间距，  衬底旋转，  靶上那个罩子和靶的距离    这3个条件优化能增加均匀区域的面积。因为你长 Au薄膜， 生长速度应该很慢，所以沉积累速度问题不是很大。

如果还不能满足，那就换磁极  腔体什么的了。
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4楼2016-06-22 23:32:39
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chanown

木虫 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by wangyong832 at 2016-06-22 23:32:39
靶  和 衬底 间距，  衬底旋转，  靶上那个罩子和靶的距离    这3个条件优化能增加均匀区域的面积。因为你长 Au薄膜， 生长速度应该很慢，所以沉积累速度问题不是很大。

如果还不能满足，那就换磁极  腔体什么的 ...

谢谢！沉积时间只有20-30s，相对会不会较短？现在完全控制好厚薄差不多

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5楼2016-06-23 07:03:56
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lanjing_

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你用的什么玻璃 镀得牢固吗 超声会不会掉

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6楼2016-06-23 12:12:24
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babyoflion

金虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
热蒸发应该好点的吧 磁控本来就那样 尤其是圆形靶材
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7楼2016-06-23 14:02:55
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蛋蛋wxy

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你好，请问你溅射镀金的起辉压力、镀膜压力和温度分别是多少啊
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8楼2017-04-22 13:07:10
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