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summerfox008

新虫 (正式写手)

[交流] 薄膜表面粗糙度较大,是否适合用椭偏仪测量其光学属性呢? 已有1人参与

我在钛合金表面通过激光氧化的方法,得到了二氧化钛薄膜,现在想研究薄膜的光学属性。我测量过钛合金基底及薄膜的表面粗糙度,都在几百个纳米,而薄膜的厚度,应该是几十个纳米。我想请问,这种情况,还适合用椭偏仪来测量薄膜的光学属性么?如果不适合,又该用什么仪器呢?我主要是想要研究薄膜的反射率折射率。
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xx学者

木虫 (小有名气)


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引用回帖:
8楼: Originally posted by summerfox008 at 2016-05-24 07:45:46
您指的是影响厚度的测量么?...

是的,折射率那些也可能影响到。因为椭偏测用涅菲儿系数那些相关的,你可以看一下。

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9楼2016-05-24 20:26:08
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xx学者

木虫 (小有名气)

2楼2016-05-22 12:05:38
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xx学者

木虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
椭偏测的tio2厚度基本在20-50纳米。

发自小木虫IOS客户端
3楼2016-05-22 12:07:08
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summerfox008

新虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by xx学者 at 2016-05-22 12:05:38
应该可以。

但是我的表面粗糙度很高啊,达到了几百个纳米,最大的,远远大于薄膜的厚度
4楼2016-05-22 14:12:11
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