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biking

金虫 (正式写手)

应助: 0 (幼儿园)
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虫号: 3647623
注册: 2015-01-15
性别: GG
专业: 光谱分析

[求助] 物理方法镀膜求助已有2人参与

各位好：

   我目前有一碳化物，现在想要通过物理方法将该碳化物沉积到Si基底上面，要求是在不改变碳化物化学结构的前提下，沉积到基底表面。

   请教各位有什么较好的方法？

   我目前了解的有真空蒸发和溅射沉积，但是有些疑问，这两种方法好像都是把分子蒸发成了离子或原子，那这样再沉积到基底表面时候会不会改变分子的结构呢？？
   对膜技术不是很了解，有说辞不当的地方敬请谅解

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2015考研，总分376，985的学校还有留有名额的吗已经有21人回复

1楼 2016-04-24 14:41:10

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

伽鲁特

至尊木虫 (著名写手)

应助: 31 (小学生)
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专业: 半导体光电子器件

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
biking: 金币+5, ★★★很有帮助, 谢谢 2016-04-26 10:37:22

引用回帖:

4楼: Originally posted by biking at 2016-04-25 21:24:30
能说详细点儿吗？...

键合技术是应用在衬底转移领域，把生长在一种衬底上的薄膜转移到另一种衬底上。转移的方法是在薄膜表面和待转移衬底表面都镀金属（键合专用）然后将两者贴在一起放进仪器中，施加很大的压力，在高温环境下，两者接触的界面的原子会相互扩散，就达到了键合的目的，最后再将原来的衬底去掉（你的实验若采用此办法则可省略最后一步）

发自小木虫IOS客户端