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biking金虫 (正式写手)
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物理方法镀膜求助已有2人参与
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各位好： 我目前有一碳化物，现在想要通过物理方法将该碳化物沉积到Si基底上面，要求是在不改变碳化物化学结构的前提下，沉积到基底表面。 请教各位有什么较好的方法？ 我目前了解的有真空蒸发和溅射沉积，但是有些疑问，这两种方法好像都是把分子蒸发成了离子或原子，那这样再沉积到基底表面时候会不会改变分子的结构呢？？ 对膜技术不是很了解，有说辞不当的地方敬请谅解 |
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伽鲁特
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【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
biking: 金币+5, ★★★很有帮助, 谢谢 2016-04-26 10:37:22
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键合技术是应用在衬底转移领域，把生长在一种衬底上的薄膜转移到另一种衬底上。转移的方法是在薄膜表面和待转移衬底表面都镀金属（键合专用）然后将两者贴在一起放进仪器中，施加很大的压力，在高温环境下，两者接触的界面的原子会相互扩散，就达到了键合的目的，最后再将原来的衬底去掉（你的实验若采用此办法则可省略最后一步） 发自小木虫IOS客户端 |
5楼2016-04-26 08:50:41
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PVD 发自小木虫Android客户端 |
2楼2016-04-25 08:26:05
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