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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 腐蚀防护 » 电化学腐蚀多孔硅
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烟锁孤城

新虫 (小有名气)

[交流] 电化学腐蚀多孔硅 已有3人参与

电化学腐蚀多孔硅  用铜片做正极，pt片做负极，为什么腐蚀时老是铜片被腐蚀了  而不是硅与HF酸反应啊
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1楼 2016-04-22 15:29:13
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烟锁孤城

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 锂电小虫子 at 2016-04-28 11:08:32
常温下，硅和HF酸的反应很缓慢，或者可以说是被腐蚀的很慢

有电场作用a
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3楼2016-05-03 10:07:10
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锂电小虫子

铜虫 (正式写手)
★
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常温下，硅和HF酸的反应很缓慢，或者可以说是被腐蚀的很慢
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2楼2016-04-28 11:08:32
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出发在路上

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你说的正极是阳极吧？连着直流电正极的一端，妥妥的发生氧化反应啊。
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4楼2016-08-08 15:44:43
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leinuo2018

木虫 (职业作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
常温下，多孔硅制备，可以在硝酸和氢氟酸的混合液里，反应很快的，

发自小木虫IOS客户端
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5楼2018-12-20 08:20:47
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