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guyingbing金虫 (正式写手)
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水热法在基底上生长晶体，正反两面不一样
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我现在研一，我现在工作是用水热法在基底上生长晶体。我可以较好的生长出晶体，但是我发现基底的正反两面生长有较大的差异。正面由于有沉淀覆盖，所以晶体生长不均匀，生长不牢。但是背面生长就很均匀。我考虑可能是沉淀过多的原因，所以我降低了溶液的浓度，同样的反应时间，有晶体生长但是生长得少，后来我又延长了反应时间，可这是候却发现晶体生长反而更少了。所以在这里我想请教一下各位老师，有没有办法将基底正反两面生长均一，一致。 @jackdeng @lich666 发自小木虫Android客户端 |
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