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有关真空镀膜偏压清洗的事情想问一下懂的人已有1人参与
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| 先介绍一下我的仪器是普通的电阻式的蒸镀仪器，但是当初老师买的时候预留了一下磁控溅射的部件准备将来加装的，气体流量计和偏压电源，做普通的蒸镀没有什么问题。我现在想用偏压对基片进行清洗，但是以前的人都没有用过，只有当时厂家留下的一点点信息。看到上面写在2-3pa通氩气加偏压进行辉光清洗的，我想问一下2-3pa的情况下进行清洗要不要开分子泵，我机器机械泵抽零点几帕还是可以的，能不能就在抽粗真空的时候进行清洗。还有如果要开分子泵清洗的话，第一次用的时候有没有什么要注意的，会不会出现通的氩气气压太大进入分子泵出问题的。我没有用过磁控溅射的设备所以不是很清楚通气的事情，有没有同学指导一下。 |
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1.分子泵要开，2-3pa，分子泵可以正常工作，并且在分子泵和镀膜室之间有个调压阀，分子泵泵口的实际压力是优于2-3pa的；另溅射或清洗前需要分子泵把本底真空抽到10-3pa以上。2.充气时，先打开调压阀，再打开流量计慢慢调节流量，注意观察真空度。一般很好稳定在想要的真空度。 发自小木虫Android客户端 |
2楼2016-04-04 07:55:54
4楼2016-04-04 12:07:22
5楼2016-04-04 12:09:52