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yangzhao1990

新虫 (初入文坛)

[求助] MoS2转移相关问题

我最近一直在做MoS2转移的工作,但是旋涂完PMMA,烘焙以后,用刀片划硅片边角放在KOH溶液中去刻蚀,还是只是冒气泡,过两天也脱落不了,我用干净的硅片试过,干净的硅片很快就下来了。影响pmma脱落下来主要原因是什么呢?急需大家的帮助。
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陈宋郊

新虫 (小有名气)

6楼2016-09-26 20:08:25
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sinapdb

荣誉版主 (职业作家)

蚂蚁爬爬

问题描述不够清楚。把你要比较的两个过程体系说清楚吧。
2楼2016-03-29 20:30:21
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yangzhao1990

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by sinapdb at 2016-03-29 20:30:21
问题描述不够清楚。把你要比较的两个过程体系说清楚吧。

我就是想说按照很多文献上的pmma转移MoS2的方法,我现在在KOH刻蚀这块出了问题,pmma总是脱落不了,方法步骤和文献一样,不知道出了什么问题啊
3楼2016-03-30 11:30:12
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双刀桑尼

新虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by yangzhao1990 at 2016-03-30 11:30:12
我就是想说按照很多文献上的pmma转移MoS2的方法,我现在在KOH刻蚀这块出了问题,pmma总是脱落不了,方法步骤和文献一样,不知道出了什么问题啊...

应该是样品表面比较脏吧,或者说是PMMA膜太薄,脱落了也看不到。
4楼2016-08-04 08:58:24
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