| 查看: 616 | 回复: 1 | |||
[交流]
金属膜基底溅射：2 nm Cr+20 nm Al +10 nm二氧化硅膜 已有1人参与
|
| 求各位大神帮助，我课题组是在石英基底上用磁控溅射的方法镀2 nm Cr+20 nm Al +10 nm二氧化硅膜的。但是最近学校微机电中心在装修，没有办法做这个金属基底了。想问一下那些学长或者学姐学校有磁控溅射实验平台能加工这个金属基底的？ |
回复此楼» 猜你喜欢
为什么现在电催化越来越卷？从“只看效果”到“全周期低成本”选型转变
已经有0人回复
-
27材料化工申博自荐 （六级 3SCI）
已经有5人回复
-
物理化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有218人回复
-
未来递送技术与创新治疗国际会议（EDIT2026），2026年11月13-15日，苏州
已经有0人回复
-
电催化氧化反应器现场运维，不可忽视的安全风险与防控措施
已经有0人回复
-
电池测试中dQ/dV怎么理解
已经有1人回复
-
精细化工浓水做零排放，前端到底该配什么氧化工艺？
已经有0人回复
-
大湾区大学姚瑶课题组2027届博士生招生 （与中山大学联合培养）
已经有24人回复
-
氯离子浓度对电催化处理效果的双重影响实测与参数优化
已经有0人回复
-
阴极协同电催化技术处理高盐难降解化工废水的机理与工程应用研究
已经有0人回复
2楼2016-04-06 14:10:48
