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新虫 (初入文坛)

[交流] 金属膜基底溅射：2 nm Cr+20 nm Al +10 nm二氧化硅膜已有1人参与

求各位大神帮助，我课题组是在石英基底上用磁控溅射的方法镀2 nm Cr+20 nm Al +10 nm二氧化硅膜的。但是最近学校微机电中心在装修，没有办法做这个金属基底了。想问一下那些学长或者学姐学校有磁控溅射实验平台能加工这个金属基底的？

1楼2016-03-24 13:20:48

金虫 (小有名气)

博士

★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
明亮的眼眸: 金币+1, 谢谢回帖。 2016-04-25 19:40:13

你好，2nmCr太薄了，10nm氧化硅也不是那么容易控制的

2楼2016-04-06 14:10:48

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