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金属膜基底溅射：2 nm Cr+20 nm Al +10 nm二氧化硅膜 已有1人参与
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| 求各位大神帮助，我课题组是在石英基底上用磁控溅射的方法镀2 nm Cr+20 nm Al +10 nm二氧化硅膜的。但是最近学校微机电中心在装修，没有办法做这个金属基底了。想问一下那些学长或者学姐学校有磁控溅射实验平台能加工这个金属基底的？ |
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2楼2016-04-06 14:10:48