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soeyoung

铜虫 (初入文坛)

[求助] 硅片表面磁控溅射氧化铝-氧化钇,想要做热重

如题。在硅片上面反应磁控溅射镀上一层氧化铝-氧化钇,大约几百纳米,想要做TG/DSC/DTA都行。但是需要把硅片给溶解了,才能能到薄膜粉末,第一次想要做这样的测试,请问怎么才能把硅片溶解。 做热重的时候可以用氧化铝坩埚吗?
谢谢大家了
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lcj-looking

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by lcj-looking at 2016-08-04 18:24:59
当时实验室用磁控溅射在Si片上镀膜,但发现做不了投射,所以改用氯化钠片做衬底,然后一溶解就能把衬底溶解掉

透射

发自小木虫Android客户端
4楼2016-08-04 18:25:17
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1-maker

木虫 (小有名气)

2楼2016-08-04 17:50:04
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lcj-looking

新虫 (初入文坛)

当时实验室用磁控溅射在Si片上镀膜,但发现做不了投射,所以改用氯化钠片做衬底,然后一溶解就能把衬底溶解掉

发自小木虫Android客户端
3楼2016-08-04 18:24:59
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