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ynkmszlzl新虫 (小有名气)
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求帮忙分析xrd，硼化锆粉末表面包裹碳化硅后峰偏移 已有1人参与
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如图： 白色为未包覆的硼化锆粉末，蓝色为表面包覆碳化硅后的硼化锆粉末 放大看：  如图所示，蓝色比白色峰更高，且向右偏移了一点，所有峰都如此 蓝色比白色多了一个非常微小的，应该是碳的峰，但没有发现硅的峰，如图：  请问： 1、我确信碳化硅已经包覆上去了，在SEM下粉末形貌变化很明显，为什么会没有硅的峰？ 2、包覆后粉末蓝色峰变高、偏移是什么原因，是由于包覆引起的吗，怎么分析？ 求教了，万分感激，顶礼膜拜！！！  [ Last edited by linhua0402313 on 2016-3-17 at 08:25 ] |
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 XRD峰偏移 |
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| 包覆的方法是什么？如果包上去的是 碳化硅的话，那应该不是出现单独的C或Si的峰，而是SiC的峰，可以看看标准卡，在那些位置出现。如果没有出现，而sem明显有包覆的话，看看你包覆的方法，有没有可能使得SiC是以非晶态的方式包覆的，如果恰好包覆层比较薄的话，可能就没有SiC的峰了。另外，偏移的问题，可能是由于包覆过程中，SiC与硼化锆接触的表面，发生原子迁移，影响了硼化锆的晶格，导致晶格畸变，从而影响图谱。个人拙见，具体情况以你实际测量和分析为准。 |
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ynkmszlzl
3楼2016-03-18 08:30:08
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