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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 请问RIE（反应离子刻蚀）怎么刻蚀FTO片子？该用什么气体？大致的反应条件是多少？
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丿Shine_可乐

至尊木虫 (著名写手)

[求助] 请问RIE（反应离子刻蚀）怎么刻蚀FTO片子？该用什么气体？大致的反应条件是多少？

小弟想用RIE刻蚀掉FTO上的那层含氟SnO2薄膜，应该用什么气体和条件呢？求助大神
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1楼2016-03-14 20:58:11
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