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miraclebelie金虫 (正式写手)
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[交流]
【请教】用3：1的H2SO4/H2O2能否除去硅片上的氧化层
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请教，用3：1的H2SO4/H2O2能否除去硅片上的氧化层 一般硅片自然形成的氧化层有多厚啊? 除去后放在空气中多长时间又能生成氧化层？ 各位大虾帮帮忙，谢啦  |
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4楼2008-10-18 08:45:42
liuwei2004
至尊木虫 (著名写手)
- 应助: 438 (硕士)
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- 红花: 58
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- 性别: GG
- 专业: 电化学
2楼2008-10-14 10:51:48
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miraclebelie(金币+1,VIP+0):你有这本书的pdf么，能否发给我，我下不了，我的邮箱gaoyan8533@gmail.com
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http://www.amazon.com/Handbook-S ... ology/dp/0815513313 This book may work DL link: http://www.filefactory.com/file/ ... ning_Technology_rar |
3楼2008-10-14 11:26:48
