| 查看: 357 | 回复: 3 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
miraclebelie金虫 (正式写手)
|
[交流]
【请教】用3：1的H2SO4/H2O2能否除去硅片上的氧化层
|
||
|
请教，用3：1的H2SO4/H2O2能否除去硅片上的氧化层 一般硅片自然形成的氧化层有多厚啊? 除去后放在空气中多长时间又能生成氧化层？ 各位大虾帮帮忙，谢啦  |
回复此楼» 猜你喜欢
293调剂
已经有25人回复
-
272分材料子求调剂
已经有4人回复
-
材料与化工调剂
已经有20人回复
-
336材料与化工085600求调剂
已经有23人回复
-
一志愿0703化学招61最终排名62化学求调剂
已经有25人回复
-
材料专业344求调剂
已经有14人回复
-
309求调剂
已经有7人回复
-
人工智能320调剂08工类还有机会吗
已经有4人回复
-
山东省基金2026
已经有3人回复
-
求调剂
已经有10人回复
liuwei2004
至尊木虫 (著名写手)
- 应助: 438 (硕士)
- 金币: 13494.1
- 散金: 978
- 红花: 58
- 帖子: 2503
- 在线: 1009.9小时
- 虫号: 541039
- 注册: 2008-04-07
- 性别: GG
- 专业: 电化学
2楼2008-10-14 10:51:48
★
miraclebelie(金币+1,VIP+0):你有这本书的pdf么，能否发给我，我下不了，我的邮箱gaoyan8533@gmail.com
miraclebelie(金币+1,VIP+0):你有这本书的pdf么，能否发给我，我下不了，我的邮箱gaoyan8533@gmail.com
|
http://www.amazon.com/Handbook-S ... ology/dp/0815513313 This book may work DL link: http://www.filefactory.com/file/ ... ning_Technology_rar |
3楼2008-10-14 11:26:48
4楼2008-10-18 08:45:42
