| 查看: 2315 | 回复: 20 | |||
[交流]
与集成电路有关的问题
|
|||
|
作为集成新手一直有一个困惑为什么在制作晶棒时并不加入离子，而是在制作晶盘时通过离子轰击的方式加入？ 发自小木虫IOS客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
售SCI一区T0P文章，我:8O.55.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有4人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.55.1.O.54,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
售SCI文章，我:8O5.5.1.O.54,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.55.1.O.54,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8O.55.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.55.1.O.54,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.55.1.O54,科目全,可伽急
已经有4人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8O.55.1.O.54,科目全,可伽急
已经有5人回复
-
售SCI一区文章，我:8.O.55.1.O.54,科目齐全,可伽急
已经有5人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O55.1.O.54,科目全,可十急
已经有5人回复
7楼2016-03-02 18:18:46
17楼2016-03-03 03:18:22
18楼2016-03-03 08:09:49
19楼2017-10-16 12:50:29
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
|
应该是因为，离子注入的深度有限。晶棒如果从轴向注入，则注入均匀度很差，切出来的晶圆品质不一，况且固定能量的离子只的注入深度是固定的。径向注入，也会是有不均匀的问题。所以，对每个晶圆注入离子，才能保证注入效果均匀一致。不了解晶棒是什么样的，冒昧回答，交流一下 发自小木虫Android客户端 |
20楼2017-10-24 01:29:45
简单回复
2016-03-02 17:31
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
tan9143楼
2016-03-02 17:33
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
2016-03-02 18:00
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
祝福
nono20095楼
2016-03-02 18:14
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
2016-03-02 18:16
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
fenshuz8楼
2016-03-02 18:19
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
祝福
2016-03-02 18:20
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
祝福
chunxik10楼
2016-03-02 18:21
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
hongyingwu11楼
2016-03-02 18:24
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
syhorchid12楼
2016-03-02 18:26
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
zhenwuhuang13楼
2016-03-02 18:27
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
chenyangl14楼
2016-03-02 18:29
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
tudiank15楼
2016-03-02 18:29
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
jiuguop16楼
2016-03-02 18:30
回复
工藤新二(金币+1): 谢谢参与
皮皮琵琶21楼
2019-01-13 12:04
回复
