| 查看: 506 | 回复: 0 | ||
felipe910615新虫 (初入文坛)
|
[求助]
CVD法在铜薄膜上生长单层石墨烯的分析与讨论
|
| 本人现在用CVD法在铜薄膜上生长单层石墨烯，得到的样品经过拉曼分析，发现2D峰位置正确2700cm-1左右，但是强度不够，FWHM约为100多cm-1（笔算），一是想问有什么软件可以很好的抠除谱图上的铜背景，二是想问，不经过transfer直接在铜背景的谱图上计算出石墨烯的FWHM有没有意义？是否也是符合30-40cm-1之间才为monolayer Graphene？还有I2D/IG和ID/IG有没有意义？谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
招生负责_院士团队_学生高自由度成长_擅长学生培养
已经有5人回复
-
温州大学招收2026年入学博士研究生（化学、材料、环境）
已经有10人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有207人回复
-
非晶合金
已经有2人回复
-
院士团队-每届学生都优秀-高自由度-团队氛围好
已经有0人回复
-
求调剂
已经有3人回复
-
化工学院（学院正式调剂群+联系方式）
已经有0人回复
-
化工学院（学院官方群）-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟高效
已经有0人回复
-
黑龙江大学分析化学招调剂
已经有0人回复
-
武汉高校国家级人才团队招收材料，化学，纺织等专业硕士调剂生
已经有26人回复
-
纺大化工学院（官方群）-院士团队招生-学生自由度高发展好-培养模式成熟
已经有0人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
